CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究
The amphiphobic modification on silicone rubber by CF_4 radio frequency capacitively coupled plasma
查看参考文献14篇
文摘
|
利用CF4射频容性耦合等离子体对硅橡胶进行表面双疏改性,用XPS技术分析了处理后硅橡胶表面成分变化,并利用接触角测量研究了表面疏水疏油改性效果。结果表明,CF4射频容性耦合等离子体通过等离子体表面氟化和剥离或刻蚀的相互竞争作用在硅橡胶表面引入大量硅氟基团和少量碳氟基团,两者协同作用使硅橡胶的疏水疏油性能得到大幅提高。 |
其他语种文摘
|
In this paper,surface modification of silicone rubber by CF4 radio frequency capacitively coupled plasma was studied by using static contact angle and XPS technique.It is found that the surface treatment could well improve the hydro-phobic and oleo-phobic properties of silicone rubber due to the formation of the abundant Si—F functional groups and a small quantity of fluorocarbon groups through the competition between the fluorination and ablation or etching. |
来源
|
功能材料
,2009,40(1):79-81 【核心库】
|
关键词
|
硅橡胶
;
容性耦合等离子体
;
表面改性
;
XPS
|
地址
|
1.
中南大学物理科学与技术学院, 湖南, 长沙, 410083
2.
大连理工大学材料科学与工程学院表面工程研究室, 辽宁, 大连, 116024
|
语种
|
中文 |
文献类型
|
研究性论文 |
ISSN
|
1001-9731 |
学科
|
一般工业技术;化学工业 |
基金
|
湖南省科技计划项目
|
文献收藏号
|
CSCD:3490603
|
参考文献 共
14
共1页
|
1.
尧华.
电瓷避雷器,2005(3):12
|
CSCD被引
1
次
|
|
|
|
2.
陈晓东. 硅橡胶的等离子体表面亲水改性.
高分子材料科学与工程,2000,16(1):153
|
CSCD被引
10
次
|
|
|
|
3.
Le Q T.
Surf Interface Anal,1994,22:224
|
CSCD被引
3
次
|
|
|
|
4.
Shi M K.
J Adhesion Sci Techol,1994,8:1129
|
CSCD被引
1
次
|
|
|
|
5.
Inagaki N.
J Adhension Sci Technol,1994,8:395
|
CSCD被引
1
次
|
|
|
|
6.
Hopkins J.
Langmuir,1996,12:3666
|
CSCD被引
2
次
|
|
|
|
7.
Marais S.
Surf Coat Technol,1999,122:247
|
CSCD被引
3
次
|
|
|
|
8.
Liston E M.
J Adhesion Sci Technol,1993,7:1091
|
CSCD被引
12
次
|
|
|
|
9.
Sigurdsson S.
J Appe Polym Sci,1997,66:1591
|
CSCD被引
3
次
|
|
|
|
10.
Morra M.
J Colloid Interf Sci,1990,137(1):11
|
CSCD被引
12
次
|
|
|
|
11.
Owen M J.
Surface Dynamics Plenum Press,1988,12:101
|
CSCD被引
1
次
|
|
|
|
12.
Schabel.
J Appl Phys,2003,93:1389
|
CSCD被引
1
次
|
|
|
|
13.
Yan Y H.
Langmuir,2005,21:8905
|
CSCD被引
6
次
|
|
|
|
14.
Hopkins J.
J Phys Chem,1995,99:4261
|
CSCD被引
2
次
|
|
|
|
|