文摘
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用扫描电镜(SEM)的电子通道衬度(ECC)技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构.结果表明,SEM-ECC技术不仅可以真实地`全面地显示疲劳位错组态,而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系. |
来源
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金属学报
,1997,33(6):561 【核心库】
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关键词
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扫描电镜
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铜单晶体
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位错结构
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ECC
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地址
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1.
中科院金属所, 材料疲劳与断裂国家重点实验室, 辽宁, 沈阳, 110015
2.
中科院金属所, 材料疲劳与断裂国家重点实验室, 辽宁, 沈阳
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语种
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中文 |
文献类型
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研究性论文 |
ISSN
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0412-1961 |
学科
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金属学与金属工艺 |
基金
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国家自然科学基金
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文献收藏号
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CSCD:382740
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