帮助 关于我们

返回检索结果

透明导电氧化物ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究

查看参考文献4篇

文摘 用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al(简称ZAO)薄膜,研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌,并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析,同时也讨论了薄膜的光学电学性能。
来源 金属学报 ,2000,36(1):72 【核心库】
关键词 ZnO:Al薄膜 ; 电阻空间分布 ; 光电性能
地址

中科院金属所, 辽宁, 沈阳, 110015

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 0412-1961
学科 物理学
基金 辽宁省沈阳市科技攻关项目
文献收藏号 CSCD:675485

参考文献 共 4 共1页

1.  陈猛. 博,1999 被引 2    
2.  Yang T L. Thin Solid Films,1998,326:60 被引 55    
3.  Fan J C C. J Appl Phys,1977(48):3524 被引 1    
4.  姜燮昌. 真空,1995,6(1):1 被引 6    
引证文献 6

1 孙超 透明导电膜ZnO:Al(ZAO)的组织结构与特性 材料研究学报,2002,16(2):113-120
被引 11

2 赵大庆 P型CuAlO2半导体陶瓷的烧结研究 粉末冶金技术,2004,22(6):333-336
被引 3

显示所有6篇文献

论文科学数据集
PlumX Metrics
相关文献

 作者相关
 关键词相关
 参考文献相关

版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护:中国科学院文献情报中心
地址:北京中关村北四环西路33号 邮政编码:100190 联系电话:(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn 京ICP备05002861号-4 | 京公网安备11010802043238号