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纳米晶Si在高压下的电学性质与金属化相变

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鲍忠兴 1   何宇亮 2   王卫乡 3   柳翠霞 1   陈伟 4  
文摘 在金刚石压砧装置上,采用电阻和电容测量方法,研究了粒径为15~18nm和80nm的纳米晶Si在室温下、24GPa内的电阻、电容与压力的关系。实验结果表明,它们分别在19~17GPa和14GPa左右发生了金属化相变。
来源 高压物理学报 ,1999,13(2):133 【核心库】
关键词 纳米晶Si ; 电阻 ; 电容 ; 金属化相变
地址

1. 中科院物理所, 北京, 100080  

2. 北京航空航天大学, 中科院半导体材料科学开放实验室, 北京, 100083  

3. 华南师范大学, 广东, 510631  

4. 中科院半导体所, 北京, 100083

语种 中文
ISSN 1000-5773
学科 物理学
基金 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室开放基金资助
文献收藏号 CSCD:619662

参考文献 共 6 共1页

1.  王卫乡. 激光与红外,1995,25(1):27 被引 8    
2.  鲍忠兴. 科学通报,1984,29(14):846 被引 16    
3.  鲍忠兴. J Appl Phys,1991,70(11):6804 被引 4    
4.  Hu J Z. Solid State Commun,1984,51(5):263 被引 3    
5.  Zhao Y X. ,1986,50(10):679 被引 1    
6.  鲍忠兴. CuO在高压下的状态方程、电学性质与相变. 高压物理学报,1998,12(4):254 被引 1    
引证文献 1

1 武振羽 纳米ZnO在高压下的性质与结构研究 高压物理学报,2003,17(1):45-49
被引 4

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陈伟 0000-0003-4876-6067
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