文摘
|
以SF_6/N_2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法:在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比,并且以仿真实验数据训练模型学习,模型具有通用性,与设备无关。 |
来源
|
功能材料与器件学报
,2000,6(4):420 【扩展库】
|
关键词
|
干法刻蚀
;
工艺仿真
;
人工神经网络
|
地址
|
中国科学院半导体所, 集成光电子学国家实验室, 北京, 100083
|
语种
|
中文 |
文献类型
|
研究性论文 |
ISSN
|
1007-4252 |
学科
|
电子技术、通信技术 |
基金
|
国家863计划
|
文献收藏号
|
CSCD:608072
|