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ZnO:Al薄膜的组织结构与性能

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裴志亮 1   谭明晖 2   杜昊 2   陈猛 2   孙超 2   黄荣芳 2   闻立时 2  
文摘 用直流磁控反应溅射合金靶制备了ZnO薄膜,研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响。衬底温度升高能改善薄膜的电学特性,其原因是薄膜晶粒尺寸的增大。温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动,但对高透射区(450~850nm)的透射率影响不大。
来源 材料研究学报 ,2000,14(5):538 【核心库】
关键词 ZnO 薄膜 ; 温度 ; 光学吸收边 ; 透射率
地址

1. 中科院金属所, 辽宁, 沈阳, 110015  

2. 中科院金属所, 辽宁, 沈阳

语种 中文
ISSN 1005-3093
学科 一般工业技术
基金 辽宁省沈阳市科技局项目
文献收藏号 CSCD:550927

参考文献 共 4 共1页

1.  Jin Z C. J Appl Phys,1988,64:5117 被引 17    
2.  Qu Y. J Vac Sci Technol A,1994,12:1507 被引 2    
3.  陈猛. 博,1999 被引 2    
4.  吴彬. 退火处理对透明导电CdIn↓2O↓4薄膜光学、电学性质及其能带结构的影响. 半导体学报,1997,18:151 被引 12    
引证文献 5

1 孙超 透明导电膜ZnO:Al(ZAO)的组织结构与特性 材料研究学报,2002,16(2):113-120
被引 11

2 李健 掺杂和热处理对纳ZnO薄膜气敏特性影响 传感器技术,2002,21(3):61-64
被引 7

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