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a-SiO_x∶H/a-SiO_y∶H多层薄膜微结构的退火行为
查看参考文献9篇
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来源
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半导体学报
,2000,21(6):576 【核心库】
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关键词
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退火
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微结构
;
多层薄膜
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地址
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1.
天津大学精密仪器与光电子工程学院, 天津, 300072
2.
中科院半导体所, 集成光电子学联合国家重点实验室, 北京, 100083
3.
华侨大学应用物理系, 福建, 泉州, 362011
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语种
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中文 |
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文献类型
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研究性论文 |
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ISSN
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0253-4177 |
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学科
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电子技术、通信技术 |
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基金
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集成光电子学国家重点联合实验室基金
;
国家自然科学基金
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文献收藏号
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CSCD:532748
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参考文献 共
9
共1页
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被引
2
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被引
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