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Quantum Confinement Effects in Strained Si Ge/Si Multiple Quantum Wells

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来源 半导体学报 ,2000,21(4):313 【核心库】
地址

中科院半导体所, 集成光电子学联合国家重点实验室, 北京, 100083

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 0253-4177
学科 物理学
基金 国家自然科学基金 ;  国家863计划
文献收藏号 CSCD:532700

参考文献 共 2 共1页

1.  成步文. UHV/CVD生长SiGe/Si异质结构材料. 半导体学报,2000,21(3):250 被引 7    
2.  雷震霖. 真空,1997,6:14 被引 6    
引证文献 1

1 于卓 Annealing Behavior of Si_(1-x)Ge_x/Si Heterostructures 半导体学报,2000,21(10):962
被引 3

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