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掺铒硅光致发光激子传递能量机制

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文摘 铒离子在硅中呈现弱施主特性,O、Er双掺杂提高施主浓度两个数量级。氧杂质与铒离子形成复合体,其施主能级可能是铒离子发光能量转换的重要通道。提出了掺铒硅光致发光激子传递能量模型,建立了发光动力学速率方程,并进行了详细推导。发光效率与光激活铒离子浓度、激发态寿命及自发辐射寿命等因素有关。指出铒离子-束缚激子复合体的热离体和激发态铒离子能量反向传递是引起铒离子发光温度猝灭的主要原因。拟合PL测量实验结果表明:它们对应的激活能分别为6.6meV和47.4meV。
来源 半导体学报 ,2000,21(3):232 【核心库】
关键词 激子传递能量 ; 光致发光 ; 掺铒硅
地址

中科院半导体所, 集成光电子学联合国家重点实验室, 北京, 100083

语种 中文
ISSN 0253-4177
学科 电子技术、通信技术
基金 国家自然科学基金
文献收藏号 CSCD:532685

参考文献 共 5 共1页

1.  Palm J. Phys Rev B,1996,B54:17603 被引 6    
2.  雷红兵. Photoluminescence from erbium-implanted silicon-rich SiO?2. Chin Phys Lett,1998,15(1):72 被引 5    
3.  雷红兵. Crystal-Field Symmetry of Luminescence Center in Er-Implanted Silicon. 半导体学报,1997,18(12):931 被引 1    
4.  雷红兵. 掺铒硅发光的晶场分裂. 物理学报,1998,47(7):1201 被引 10    
5.  雷红兵. 掺铒富硅氧化硅薄膜的光致发光. 半导体学报,1999,20(1):67 被引 4    
引证文献 1

1 丁瑞钦 掺铒硅基材料发光的研究进展 材料导报,2003,17(2):15-17,20
被引 0 次

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