文摘
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用固定能量为20keV,剂量为10~(11)~10~(13)/cm~2的质子和固定剂量为1×10~(11)/cm~2,能量为30~100keV的质子,对GaAs/AlGaAs多量子阱材料进行辐照,得到了材料的光致发光特性随质子能量和剂量的变化关系,并进行了讨论。结果表明,质子辐照对材料的光学性质有破坏性的影响,这种影响是通过两种机制引起的。相同能量的质子辐照,随着辐照剂量的增大,对量子阱光致发光峰的破坏增大。相同剂量的质子辐照,当辐照质子的射程刚好覆盖整个量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏最严重,当辐照质子的射程超过量子阱结构区域时,对量子阱光致发光峰的破坏反而减小。 |
来源
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半导体学报
,1999,20(11):957 【核心库】
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地址
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1.
四川大学物理系, 辐射物理及技术开放实验室, 四川, 成都, 610064
2.
中科院半导体所, 北京, 100083
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语种
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中文 |
ISSN
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0253-4177 |
学科
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电子技术、通信技术 |
基金
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国家教育部高等学校博士学科点专项科研基金
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国家自然科学基金
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文献收藏号
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CSCD:532609
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