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氢促进位错发射的分子动力学模拟

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周国辉 1   周富信 2   赵雪丹 3   张文清 3   陈难先 3   万发荣 1   褚武扬 1  
文摘 利用第一原理和陈氏三维晶格反演公式获得了Al和H的互作用对势。分子动力学计算表明,当Al晶体中含H时,裂尖发射位错的临界应力强度因子从0.11MPam~(1/2)降低为0.075MPam~(1/2)(C_H=0.72%)和0.06MPam~(1/2)(C_H=1.44%),即氢促进了位错的发射。计算表明,氢在裂尖富集后能形成许多小气团,同时使平衡空位浓度升高。
来源 中国科学. E辑 , 技术科学,1998,28(1):1 【核心库】
关键词 ; 位错发射 ; 分子动力学 ; 计算机模拟
地址

1. 北京科技大学材料物理系, 北京  

2. 中科院力学所, 北京  

3. 北京科技大学应用物理所, 北京

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1006-9275
学科 物理学
基金 国家自然科学基金
文献收藏号 CSCD:476400

参考文献 共 5 共1页

1.  褚武扬. Scr Metall,1979,13:1063 被引 4    
2.  褚武扬. Corrosion,1982,38:561 被引 6    
3.  Zhang Y W. J Phys D,1995,28:748 被引 7    
4.  陈难先. Phys Lett A,1994,195:135 被引 2    
5.  Hsiao C M. Hydrogen effect in metals,1981:255 被引 2    
引证文献 7

1 周国辉 液体金属脆机理研究 中国科学. E辑, 技术科学,1999,29(2):97
被引 0 次

2 高克玮 TiAl的氢化物脆和滞后断裂机理 中国科学. E辑, 技术科学,1999,29(4):289
被引 2

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