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Ti/莫来石陶瓷界面反应的俄歇电子能谱研究

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岳瑞峰 1   王佑祥 2   陈春华 2   徐传骧 3  
文摘 结果表明,在淀积过程中,最初淀积的Ti与衬底表面的氧形成Ti-O键,界面区很窄;450℃退火1h后,有少量元素态Al、Si原子析出,界面区有所展宽,但变化不大;650℃退火1h后,界面发生强烈反应,有TiO和Ti-Al、Ti-Si化合物生成。850℃退火1h后,除上述反应产物外又生成了Ti_2O。
来源 西安交通大学学报 ,1998,32(4):9 【核心库】
关键词 固体-固体界面 ; 固相反应 ; 退火 ; 元素分析
地址

1. 西安交通大学电气工程学院, 陕西, 西安  

2. 中科院半导体所, 北京  

3. 西安交通大学, 陕西, 西安

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 0253-987X
学科 物理学;电子技术、通信技术
基金 国家自然科学基金 ;  上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室基金
文献收藏号 CSCD:466179

参考文献 共 0

引证文献 2

1 张录平 俄歇电子能谱仪在材料分析中的应用 分析仪器,2009(4):14-17
被引 2

2 刘爱辉 钛合金与铸型界面反应的研究进展 稀有金属材料与工程,2012,41(3):554-558
被引 4

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