文摘
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提出一种可在垂直腔面发射激光器外延生长后准确确定其模式生长偏差的简便方法。利用选择性湿法腐蚀,分别测出器件各主要部分的微区光反射谱,通对模拟计算得到这些部分的厚度偏差及其对模式波长偏移的影响,使调整后再生长的器件模式位置大为改善,并为器件后期制备的模式调节提供了可靠的依据。 |
来源
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半导体学报
,1998,19(1):76 【核心库】
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关键词
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腐蚀
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垂直腔面发射激光器
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生长偏差
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模式波长
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地址
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中科院半导体所, 北京
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语种
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中文 |
文献类型
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简报 |
ISSN
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0253-4177 |
学科
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电子技术、通信技术 |
文献收藏号
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CSCD:423659
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