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磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价
Quantitative evaluation for magnetic field distribution of magnetron sputtering target
查看参考文献12篇
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文摘
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针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量Bx的平行率Rk为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据 |
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其他语种文摘
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In order to quantitatively evaluate magnetic field distribution of magnetron sputtering cathode targets,a criterion called parallel rate Rk to the horizontal magnetic field component Bx was suggested,which was a new method to evaluate magnetic field distribution.The effects of structural parameters of cathode target on magnetic field distribution during magnetron sputtering were simulated and analyzed by finite element method,and Rk was used to make authentication for the rationality of structural parameters.The results show that quantitative criterion Rk can effectively evaluate the magnetic field distribution,and can provide the basis criterion for magnetic field simulation and analysis |
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来源
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材料热处理学报
,2010,31(12):153-157 【核心库】
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关键词
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磁控溅射
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磁场分布
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结构参数
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平行率
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地址
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中国科学院力学研究所, 北京, 100190
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语种
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中文 |
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文献类型
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研究性论文 |
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ISSN
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1009-6264 |
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学科
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一般工业技术 |
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基金
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国家自然科学基金
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文献收藏号
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CSCD:4086205
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参考文献 共
12
共1页
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