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248nm KrF准分子激光零级抑制石英相位掩模器的研制

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陈根祥 1   程美乔 2   葛璜 2   简水生 1   王圩 2  
来源 中国激光 ,1997,24(7):623 【核心库】
关键词 相位掩摸 ; 反应离子刻蚀 ; 光栅
地址

1. 北方交通大学光波技术所, 北京  

2. 中科院半导体所, 北京

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 0258-7025
学科 电子技术、通信技术
基金 国家教育部高等学校博士学科点专项科研基金 ;  国家自然科学基金 ;  国家863计划
文献收藏号 CSCD:408007

参考文献 共 0

引证文献 4

1 陈刚 镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法 中国激光,2006,33(6):800-804
被引 2

2 陈刚 全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究 光学技术,2008,34(1):133-135,140
被引 5

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