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GaAs晶片化学机械抛光的机理分析

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来源 固体电子学研究与进展 ,1997,17(4):399 【核心库】
关键词 GaAs ; 抛光 ; 机理分析
地址

中科院半导体所, 北京

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1000-3819
学科 电子技术、通信技术
文献收藏号 CSCD:371557

参考文献 共 0

引证文献 4 篇

1 陈志刚 纳米CeO2的醇水法制备及其对GaAs晶片的抛光性能 中国有色金属学报,2006,16(6):1064-1069
被引 3 次

2 刘承霖 InSb半导体材料的抛光液研究 半导体技术,2006,31(12):912-914
被引 2 次

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