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用气相色谱法测定半导体工艺中固、液、气相砷、磷及化合物的新方法

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文摘 研究了一种快速、灵敏、可靠的高温氢还原-气相色谱分析方法,样品不需预处理,使气相色谱仪能直接测定固、液、气相样品中砷、磷及其化合物的含量.砷、磷的检测限分别为0.01mg/L和0.003mg/L.相对偏差分别为6.2%和8.6%,测定范围为10~(-5)~10~(-11),并与经典方法进行对比,结果一致.
来源 半导体学报 ,1997,18(1):64 【核心库】
关键词 气相色谱法 ; 半导体工艺 ; 固、液、气相 ; ; ; 化合物
地址

中科院半导体所, 北京

语种 中文
文献类型 简报
ISSN 0253-4177
学科 电子技术、通信技术
文献收藏号 CSCD:358653

参考文献 共 7 共1页

1.  团体著者. 空气和废气监测分析方法,1991 被引 1    
2.  牟世芬. 离子色谱,1987 被引 2    
3.  Yan Hui. In The First Pacific Rim Int Conf on Adv Mater and Processing,1992 被引 1    
4.  闻瑞梅. Chin J Electron,1995,4(4):93 被引 1    
5.  闻瑞梅. 劳动保护科学技术,1993,13(2):29 被引 3    
6.  詹益兴. 实用气相色谱分析,1983 被引 9    
7.  奚旦立. 环境监测,1987 被引 13    
引证文献 1

1 闻瑞梅 半导体材料器件生产工艺中废气废水的综合治理方法及设备的研究 中国工程科学,2001,3(2):71
被引 0 次

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