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剂量率对PMOS剂量计辐射响应的影响
Influence of Dose Rate on Radiation Response of PMOSFET Dosimeter

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孙静 1   郭旗 2   张军 1   任迪远 2   陆妩 2   余学锋 2   文林 1   王改丽 2   郑玉展 2  
文摘 研究了不同剂量率下PMOS剂量计阈值电压的响应.在V_(TH)偏置下,观察了剂量率对PMOS剂量计辐射响应线性度和灵敏度的影响规律及其退火特性.试验结果表明:随着剂量率降低,n值趋近于1,表现出较好的线性度,响应灵敏度也增加.分析认为,PMOS剂量计有明显的低剂量率辐射敏感增强效应(ELDRS),对其损伤机理作了进一步的讨论.
其他语种文摘 Response of threshold voltage shift of PMOSFET dosimeter was investigated at various dose rates. Based on V_(th)biased model, the dose-rate effects of PMOSFET dosimeter on the linearity and sensitivity and its annealing features were observed. Results showed that, as dose rate decreased, the n value tended towards 1, with better linearity and higher sensitivity, and that PMOSFET dosimeter obviously exhibited enhanced low-dose-rate sensitivity (ELDRS). And damage mechanism of ELDRS was also discussed.
来源 微电子学 ,2009,39(1):128-131 【扩展库】
关键词 PMOSFET ; 剂量计 ; 剂量率 ; 阈值响应 ; 灵敏度
地址

1. 新疆大学物理科学与技术学院, 新疆, 乌鲁木齐, 830046  

2. 中国科学院新疆理化技术研究所, 新疆, 乌鲁木齐, 830011

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1004-3365
学科 电子技术、通信技术
文献收藏号 CSCD:3524618

参考文献 共 12 共1页

1.  HOLMES-SIEDLE A G. Calibration and flight testing of a low-field PMOS dosimeter. IEEE Trans Nucl Sei,1985,32(6):4425 被引 1    
2.  KIM S J. Enhanced low dose rate sensitivity (ELDRS) observed in RADFET sensor. Radiation Effect on Components and Systems Conf,2003:669-671 被引 1    
3.  MAT P. Ionizing radiation effects in MOS devices and circuits,1989:159-163,218-223,286-292 被引 1    
4.  范隆. PMOS剂量计的退火特性. 半导体学报,2000,21(4):383-387 被引 11    
5.  BLAMIRES N G. PMOS dosimeters:long-term annealing and neutron response. IEEE Transactions on Nuclear Science,1986,33(6):1310-1315 被引 4    
6.  SCHRIMPF R D. Dose-rate effects on the total-dose threshold-voltage shift of power MOSFETs. IEEE Transs Nuel Sci,1988,35(6):1536 被引 4    
7.  MCLEAN F K. A framework for understanding radiation-induced states in SiO_2 MOS structures. IEEE Trans Nucl Sci,1980,27(6):1651 被引 1    
8.  BUNSON P E. Hydrogen-related defects in irradiated SiO_2. IEEE Trans Nuel Sci,2000,47(6):2289 被引 6    
9.  SAKS N S. Interface trap formation via the two-stage H~+ process. IEEE Trans Nucl Sci,1989,36(6):1848 被引 4    
10.  RASHKEEV S N. Proton-induced defect generation at the SiO_2 interface. IEEE Trans Nucl Sci,2001,48(6):2086 被引 11    
11.  RASHKEEV S N. Physical model for enhanced interlace-trap formation at low dose rates. IEEE Trans Nucl Sci,2002,49(6):2650 被引 68    
12.  杨功铭(译). MOS器件中辐射产生界面态的发生. 微电子学,1988,28(1):42-49 被引 1    
引证文献 5

1 兰博 不同型号PMOSFETS的剂量率效应研究 核技术,2010,33(7):543-546
被引 0 次

2 高博 p型金属氧化物半导体场效应晶体管低剂量率辐射损伤增强效应模型研究 物理学报,2011,60(6):068702-1-068702-7
被引 5

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