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沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响
Influence of deposition time on TiO_2 photocatalyst films deposited by dc reactive magnetron sputtering

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张文杰 1   朱圣龙 2   李瑛 2   王福会 2   何红波 3  
文摘 应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO_2薄膜。TiO_2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h很快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO_2薄膜,而溅射3~7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO_2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO_2薄膜相比有明显的蓝移,薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO_2薄膜中。TiO_2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。
其他语种文摘 TiO_2 thin films with photocatalytic activity were deposited on microscope glass slides by means of dc magnetron sputtering.Uniform and transparent TiO_2 thin films could be prepared when oxygen flow rate surpassed its threshold.The substrate temperature ran up quickly to 110℃ in the first hour and the final substrate temperature after seven hours was no more than 130℃.The film deposited for two hours was amorphous,whereas anatase crystal phase appeared in the film deposited from three to seven hours.The amorphous films and the films composed of small crystalline particles performed quantum size effects and their band edges had a blue shift compared with the well-crystallized films.The titanium in the films was in the oxidation state of Ti4+.The transmittance of the films decreased and the photocatalytic activity of the films increased steadily with increasing deposition time and film thickness.
来源 功能材料 ,2008,39(11):1785-1788 【核心库】
关键词 磁控反应溅射 ; TiO2薄膜 ; 光催化 ; 沉积时间
地址

1. 沈阳理工大学环境与化学工程学院, 金属腐蚀与防护国家重点实验室, 辽宁, 沈阳, 110168  

2. 中国科学院金属研究所, 金属腐蚀与防护国家重点实验室, 辽宁, 沈阳, 110016  

3. 中国科学院沈阳应用生态研究所, 辽宁, 沈阳, 110016

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1001-9731
学科 化学
基金 国家自然科学基金 ;  国家973计划
文献收藏号 CSCD:3459147

参考文献 共 15 共1页

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12.  McMurray T A. J Photochem Photobiol A,2006,182:43-51 被引 5 次    
13.  Maira A J. Appl Catal B,2001,29:327-336 被引 32 次    
14.  Linsebigler A L. Chem Rev,1995,95(1):735-758 被引 772 次    
15.  Pouilleau J. J Mater Sci,1997,32:5645-5651 被引 25 次    
引证文献 6 篇

1 张文杰 TiO2/HZSM-5的制备及光催化性能的表征 功能材料,2010,41(4):637-640
被引 0 次

2 张文杰 固相反应法制备CuNb2O6的光催化降解甲基橙活性 硅酸盐学报,2010,38(12):2252-2256
被引 0 次

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