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Ti和蓝宝石的界面反应

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顾诠 1   王佑祥 2   崔玉德 2   陈新 2   陶琨 3  
文摘 在超高真空中用电子束蒸发在抛光的(1102)取向的蓝宝石(a-Al_2O_3)衬底上蒸镀500 nm的Ti膜,在恒温炉中退火,然后用XRD(包括一般的和小角度的X射线衍射),AES和SIMS等表面分析技术详细研究了从室温至850℃,Ti与a-Al_2O_3的固相界面反应.首次系统提出了不同反应温区相应的化学反应式,讨论了采用体材料数据作热力学计算来预言Ti/a-Al_2O_3界面反应的局限性.
来源 物理学报 ,1996,45(5):832 【核心库】
DOI 10.7498/aps.45.832
关键词 Ti ; 蓝宝石 ; 界面反应
地址

1. 中科院半导体所, 表面物理国家重点实验室, 北京, 100083  

2. 中科院半导体所, 表面物理国家重点实验室, 北京  

3. 清华大学材料所, 表面物理国家重点实验室, 北京

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1000-3290
学科 物理学
基金 国家自然科学基金
文献收藏号 CSCD:339970

参考文献 共 5 共1页

1.  王佑祥. 1994年中国材料研讨会论文集,1995 被引 1    
2.  陈新. Applied Surface Sci,1995,89:169 被引 3    
3.  Lu Hua. J Mater Sci,1994,30:399 被引 1    
4.  Kang S. J Mater Sci,1992,27:4536 被引 3    
5.  Li X L. Acta Metall Mater,1992,40:3149 被引 8    
引证文献 2

1 岳瑞峰 Ti与莫来石陶瓷衬底的界面反应 物理学报,1997,46(8):1605
被引 1

2 焦谦益 钛铸件表面反应层的组成和显微结构的研究 口腔医学研究,2013,29(1):21-23,28
被引 0 次

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