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文摘
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采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO_2薄膜.这种TiO_2薄膜断面呈现柱状晶体结构.薄膜表面出现不规则起伏.薄膜的晶相主体均为锐钛矿型.TiO_2薄膜的光透射谱变化不大.这种TiO_2薄膜经紫外光辐照后,可以降低水和TiO_2薄膜表面之间的接触角.不同工艺条件下制备的TiO_2薄膜接触角相差很大.在纯氧条件下,薄膜制备的真空度对薄膜的亲水性有着决定性的影响. |
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其他语种文摘
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Titanium oxide films were grown by reactive magnetron sputtering under different pressures of pure oxygen, ranging from 1.0 Pa to 4.0 Pa, at a fixed oxygen flow rate of 10 cm~3/min.The surface microstructures were characterized with X-ray diffraction(XRD) and atomic force microscopy(AFM). The results show that the film gorwn under the oxygen pressure of 2.5 Pa displays the beat hydrophilicity. Interesting finding is that ultraviolet light irradiation considerably reduces its water contact angle. Possible mechanism(s) was also tentatively discussed. |
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来源
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真空科学与技术学报
,2007,27(2):155-158 【扩展库】
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关键词
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TiO_2薄膜
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亲水特性
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反应溅射
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真空度
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地址
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1.
东北大学真空与流体工程研究中心, 沈阳, 110004
2.
中国科学院金属研究所, 沈阳, 110015
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语种
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中文 |
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文献类型
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研究性论文 |
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ISSN
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1672-7126 |
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学科
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一般工业技术 |
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文献收藏号
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CSCD:2726709
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1.
郭旭侠. 纳米TiO2光催化材料的研究现状及展望.
沈阳航空工业学院学报,2004,2:1-4
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2
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2.
Fujishima A. Electrochemical photolysis of wateral a semiconductor electrode.
Nature,1972,238:37-38
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2801
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3.
Wang R. Light-induced amphiphilic surfaces.
Nature,1997,388:431-432
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被引
332
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4.
姜燮昌. 光催化TiO2薄膜的溅射沉积技术.
真空,2005,1:1-5
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王贺权. 靶基距对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响.
真空,2005,1:11-14
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6.
成晓玲. 纳米二氧化钛薄膜制备研究进展.
表面技术,2005,8:4-10
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