Co-Si多层膜在稳态热退火中的固相界面反应

顾诠陈维德许振嘉

参考文献共 5 共1页

	1. 许振嘉. 半导体器件研究与进展.2,1990	被引 2 次
	2. 陈维德. Co与Si和SiO1@2@在快速热退火中的反应. 半导体学报,1990,11(11):859	被引 4 次
	3. 张世表. 真空科学和技术,1990,10(2):104	被引 2 次
	4. Tu K N. J Appl Phys,1982,53:4406	被引 3 次
	5. 顾诠. 半导体学报	被引 1 次

引证文献 1 篇

1 屈新萍用于自对准提升硅化物结构的Co/Si/Ti/Si及Co/Si/…Ti/Si多层薄膜固相反应研究半导体学报,2000,21(2):197
被引 1 次

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