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分子束外延低温生长GaAs缓冲层及性能研究

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来源 半导体学报 ,1993,14(12):768 【核心库】
地址

中科院半导体所, 北京

语种 中文
文献类型 简报
ISSN 0253-4177
学科 物理学;电子技术、通信技术
文献收藏号 CSCD:199035

参考文献 共 1 共1页

1.  Lin B J. IEEE Trans ED,1990,37(1):46 被引 1 次    
引证文献 1 篇

1 侯志青 稀磁半导体制备方法的研究进展 半导体技术,2014,39(4):294-299
被引 1 次

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