文摘
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介绍了CMOS运算放大器电路经电离辐照后,在不同偏置及不同退火温度下,运放整体性能参数、电路内部单管特性及功能单元电路的节点电流、电压的变化规律,分析了引起运放辐照后继续损伤退化的基本原因.结果显示,运放电路辐照后的退火行为与偏置及温度均有较大的依赖关系,而这种关系与辐照感生的氧化物电荷和Si/SiO2界面态密度的增长与退火直接相关. |
其他语种文摘
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The behavior of the CMOS op-amps exposed to the ionizing radiation and annealing characteristic after irradiation in different biases and temperature are described. The tested characteristics include all electrical parameters of op-amps and inner transistor,and the current and voltage of the nodes of the subsidiary circuits. The change of radiation-induced oxide trapped charge and Si/SiO2 interface state density depends on the annealing biases and temperature in quite extent. |
来源
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半导体学报
,2004,25(6):731-734 【核心库】
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关键词
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CMOS运算放大器
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电离辐射
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退火
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地址
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1.
中国科学院新疆理化技术研究所, 乌鲁木齐, 830011
2.
西安微电子技术研究所, 西安, 710054
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语种
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中文 |
文献类型
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研究性论文 |
ISSN
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0253-4177 |
学科
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电子技术、通信技术 |
文献收藏号
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CSCD:1693414
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