帮助 关于我们

返回检索结果

硅中与钼有关能级的研究

查看参考文献3篇

周洁 1   卢励吾 1   韩志勇 1   吴汲安 2  
来源 半导体学报 ,1992,13(1):8 【核心库】
关键词 硅中 ; ; 能级
地址

1. 中科院半导体所, 半导体超晶格国家重点实验室, 北京  

2. 中科院半导体所, 北京

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 0253-4177
学科 电子技术、通信技术
文献收藏号 CSCD:168717

参考文献 共 3 共1页

1.  周洁. Chin Phys Lett,1986,3:5 被引 1    
2.  周洁. J Appl Phys,1991,69:2746 被引 2    
3.  周洁. J Appl Phys,1991,69:2251 被引 2    
引证文献 1

1 周洁 氯对硅中4d过渡杂质的钝化 电子学报,1994,22(5):80
被引 0 次

显示所有1篇文献

论文科学数据集
PlumX Metrics
相关文献

 作者相关
 关键词相关
 参考文献相关

版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护:中国科学院文献情报中心
地址:北京中关村北四环西路33号 邮政编码:100190 联系电话:(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn 京ICP备05002861号-4 | 京公网安备11010802043238号