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管道热丝CVC金刚石膜反应器温度场的数值计算
Numerical Study on the Temperature Field of Reactor Wall for HFCVD Diamond Films

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文摘 在热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石膜的传统管道反应器中,对不同传热机制下管道壁温度场的空间分布进行了模拟计算。结果表明,管道壁温度场在纯热辐射机制作用下的分布很不均匀;在绝热和恒温的边界条件下考虑热传导作用后,管道壁温度分布的均匀性大大提高;进一步的热对流作用仅提高管道壁的总体温度,并不显著改变管道壁温度场的均匀性分布。
其他语种文摘 The temperature fields of reactor wall are simulated under different heat transfer mechanisms during the growth of diamond films by HFCVD. The results show that the temperature fields with heat irradiation are of poor homogeneous. When considering lateral heat conduction under adiabatic and isothermal boundary condition, respectively, the uniformity of the temperature fields increases, but it is not further sensitive to heat convection.
来源 人工晶体学报 ,2002,31(6):576-582 【核心库】
关键词 热丝化学气相沉积 ; 金刚石膜 ; 温度场 ; 模拟计算
地址

中国科学院金属研究所, 沈阳, 110016

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1000-985X
学科 物理学
基金 国家自然科学基金 ;  辽宁省科技厅项目
文献收藏号 CSCD:1016529

参考文献 共 17 共1页

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引证文献 1

1 汪爱英 热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究 新型炭材料(中英文),2005,20(3):229-234
被引 4

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