原子层沉积技术在含能材料表面修饰中的应用研究进展
Research Progress on Application of Atomic Layer Deposition in Surface Fabrication of Energetic Materials
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文摘
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介绍了原子层沉积技术的原理和特点,并对比传统物理及化学气相沉积薄膜制备工艺,总结了原子层沉积技术在含能材料合成及表面修饰改性方面所具有的薄膜厚度精确可控、工作温度低和大面积及三维均匀性方面的优势。综述了原子层沉积技术在亚稳态分子间复合物合成,降低金属粉和炸药感度,以及提高铝粉、氢化铝和ADN稳定性等方面的研究进展。评述了原子层沉积技术在含能材料精确合成及表面修饰中的主要作用及未来发展方向。附参考文献29篇。 |
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其他语种文摘
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The principles and characteristics of the atomic layer deposition (ALD) technology are briefly described.In comparison with the traditional vapor deposition technologies,ALD boasts its unique capabilities in precise film thickness control,low temperature deposition,large area and three-dimensional uniformity.These features make ALD a promising technology for preparing the energetic composites and fabricating the surfaces of energetic materials.The latest research progresses on the applications of ALD in the preparation and modification of energetic materials are summarized,including synthesis of metastable intermolecular composites (MIC),de-sensitization of metal fuels and explosives,and stability improvement of aluminum,aluminum hydride and ammonium dinitramide (ADN).The importance and prospects of ALD in precise synthesis and surface fabrication of energetic materials are evaluated.With 29 references. |
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来源
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火炸药学报
,2019,42(5):425-431 【核心库】
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DOI
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10.14077/j.issn.1007-7812.2019.05.001
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关键词
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应用化学
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原子层沉积(ALD)
;
分子层沉积(MLD)
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含能材料
;
表面性质
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表面修饰
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地址
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1.
西安近代化学研究所, 陕西, 西安, 710065
2.
西安近代化学研究所燃烧与爆炸技术重点实验室, 陕西, 西安, 710065
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语种
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中文 |
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文献类型
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综述型 |
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ISSN
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1007-7812 |
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学科
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化学;武器工业 |
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基金
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装备预研重点实验室基金项目
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文献收藏号
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CSCD:6609092
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参考文献 共
29
共2页
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