帮助 关于我们

返回检索结果

二氧化硅表面的APTS修饰
The Surface Modification of Silica with APTS

查看参考文献58篇

文摘 3-氨丙基三乙氧基硅烷(APTS)修饰的二氧化硅在生物化学、分析、催化、电子学等领域具有重要的应用前景。本文对近年来APTS修饰二氧化硅的研究进展进行了简要的概述,介绍了APTS修饰二氧化硅的典型方法和APTS修饰层的表征手段,探讨了不同修饰方法可控性及对所形成的APTS层结构及稳定性的影响。
其他语种文摘 Silica modified with 3-aminopropyhriethoxysilanes (APTS) has been widely used in the fields of biochemistry, analytical chemistry, catalyst technology and electronics, etc. In this review we summarize the recent progress on chemical modification of silica with APTS. The typical strategies for APTS modification and the characterization methods for the APTS layers on silica surface are introduced, and the controllability of the different methods for surface APTS modification of silica, the structure and stability of the surface APTS layers are discussed.
来源 化学进展 ,2006,18(2/3):239-245 【核心库】
关键词 APTS ; 二氧化硅 ; 表面修饰
地址

吉林大学化学学院, 长春, 130023

语种 中文
文献类型 综述型
ISSN 1005-281X
学科 化学;一般工业技术
基金 国家自然科学基金 ;  国家教育部科学技术研究重点项目
文献收藏号 CSCD:2323304

参考文献 共 58 共3页

1.  Vansant E F. Characterization and Chemical Modification of the Silica Surface. Characterization and Chemical Modification of the Silica Surface,1995:149-297 CSCD被引 1    
2.  Kallury K M R. Chemically Modified Surface(eds. Chemically Modified Surface,1994:58-128 CSCD被引 1    
3.  O'Gara J E. LC-GC. LC-GC,2001,19:632-642 CSCD被引 4    
4.  Jaroniec C P. J. J.Phys.Chem.B,1998,102:5503-5510 CSCD被引 14    
5.  Plueddemann E P. Silane Coupling Agents. Silane Coupling Agents.2nd ed,1991:153-249 CSCD被引 1    
6.  Kallury K M R. Anal. Anal.Chem,1992,64:1062-1068 CSCD被引 1    
7.  Hiramatsu H. Langmuir. Langmuir,2003,19:7003-7011 CSCD被引 3    
8.  Graf C. Langmuir. Langmuir,2002,18:524-534 CSCD被引 49    
9.  Caruso F. Adv. Adv.Mater,2001,13:11-22 CSCD被引 174    
10.  Hebalkar N. J. J.Colloid Interface Sci,2004,278:107-114 CSCD被引 1    
11.  Prodan E. Science. Science,2003,302:419-422 CSCD被引 134    
12.  Yang H H. Analyst. Analyst,2003,128:462-466 CSCD被引 2    
13.  Jal P K. Talanta. Talanta,2004,62:1005-1028 CSCD被引 34    
14.  Perruchot C. Surf. Surf.Interface Anal,1998,26:689-698 CSCD被引 4    
15.  Satu E. Langmuir. Langmuir,2003,19:3461-3471 CSCD被引 1    
16.  Satu E. J. J.Phys.Chem.B,2004,108:11454-11463 CSCD被引 1    
17.  Satu E. Langmuir. Langmuir,2003,19:10601-10609 CSCD被引 1    
18.  Westcott S L. Langmuir. Langmuir,1998,14:5396-5401 CSCD被引 40    
19.  Walcarius A. Chem. Chem.Mater,2002,14:2757-2766 CSCD被引 6    
20.  Vrancken K C. J. J.Colloid Interface Sci,1995,174:86-91 CSCD被引 2    
引证文献 13

1 赖梦君 高分子聚合物微流控细胞芯片的改性研究 第三军医大学学报,2011,33(24):2571-2574
CSCD被引 0 次

2 谌伟庆 APTS改性SBA-15负载Ni-B非晶态合金催化剂的制备及加氢脱硫性能 分子催化,2012,26(2):148-153
CSCD被引 5

显示所有13篇文献

论文科学数据集
PlumX Metrics
相关文献

 作者相关
 关键词相关
 参考文献相关

版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护:中国科学院文献情报中心
地址:北京中关村北四环西路33号 邮政编码:100190 联系电话:(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn 京ICP备05002861号-4 | 京公网安备11010802043238号