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多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定
Determination of the optical constants of porous anodic aluminum oxide films

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王成伟 1   王建 1   李燕 1   刘维民 2   徐洮 2   孙小伟 1   力虎林 3  
文摘 根据多孔阳极氧化铝(AAO)薄膜的实验透射谱(200-2500nm),采用极值包络线算法确定其光学常数,并由此较精确地计算出AAO薄膜样品在该波段的光学常数.结果表明,多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙(能隙约4.5eV)半导体的光学特性,且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性,即随阳极氧化电压的增加,AAO薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大,消光系数减小.同时,计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合,则说明计算结果和实验值是自洽的.
其他语种文摘 A simple method was eslablished based on the envelope curves of the optical transmission spectrum over the wavelength range of 200 to 2500 nm at normal incidence, which was used for the accurate determination of the optical constants of the anodic aluminum oxide(AAO) films. The results showed that the AAO films exhibited the optical features of a semiconductor with direct band gap of about 4.5 eV, and the optical constants of the AAO films depended strongly on the anodic oxidation voltage, an important technologic parameter for preparation of AAO films. With the increase of the anodic oxidation voltage, the optical constants including the refractive index, thickness and optical band gap of AAO films increased, and the extinction coefficient decreased. Meanwhile, the fact that the calculated values of the thickness of AAO films were in satisfactory agreement with the values of measurement illuminated that the results were well self-consistent with the experiment.
来源 物理学报 ,2005,54(1):439-444 【核心库】
DOI 10.7498/aps.54.439
关键词 薄膜光学 ; 光学常数 ; 多孔阳极氧化铝 ; 阳极氧化电压
地址

1. 西北师范大学物理与电子工程学院, 甘肃, 兰州, 730070  

2. 中国科学院兰州化学物理研究所, 固体润滑国家重点实验室, 甘肃, 兰州, 730000  

3. 兰州大学化学化工学院, 甘肃, 兰州, 730000

语种 中文
文献类型 研究性论文
ISSN 1000-3290
学科 物理学
基金 甘肃省自然科学基金 ;  西北师范大学知识与科技创新工程
文献收藏号 CSCD:2022776

参考文献 共 23 共2页

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20.  Sahoo N K. Appl. Appl. Phys. A,1996,63:195 被引 4    
引证文献 7

1 王建 Ag/AAO纳米有序阵列复合结构等效光学参量的确定 物理学报,2005,54(12):5920-5925
被引 3

2 苏伟涛 氟化铒薄膜晶体结构与红外光学性能的关系 物理学报,2007,56(5):2541-2546
被引 4

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王建 0000-0001-7430-1218
刘维民 0000-0002-8723-2247
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