类富勒烯纳米晶CNx薄膜及其场致电子发射特性
Fullerene-like nano-crystalline CNx films and its characteristics of field electron emission
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文摘
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利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx薄膜,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx薄膜的微结构和成分进行了分析.研究了其场致电子发射特性.发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关,当甲烷、氢气及氮气流量比为8/50/50sccm时,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构(类富勒烯结构)和很好的场发射特性.场发射阈值电场降低至1.1V/μm.当电场为5.9V/μm时,平均电流密度达70μA/cm2,发射点密度大于1*104cm-2. |
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其他语种文摘
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CHX films were prepared by using microwave plasma-enhanced chemical vapor phase deposition. As-deposited films were analyzed by x-ruy pholoelectron speclroscopy, x-ray diffraction, scanning electron microscopy and Raman spectroscopy. Field electron emission characteristics of thin films were studied. Experimental results indicate that the film structure and properties of Lhe Geld electron emission are related to flow ratio of N2 lo H2 while the flow rale of CH4 was kept at 8 seem. When the flow ratio of N2 to 112 was 50/50 seem, the obtained film had a nano-crystalline graphitic structure with curved basal planes (fullerene-like structure) and excellent properties of field electron emission. The turn-on field decreased to 1.1V/μm At an electric field of 5.9V/μm, the average current density was 70μA/cm~2 and emission sites density was larger than 1*104cm~(-2 ） |
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来源
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物理学报
,2004,53(3):883-887 【核心库】
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DOI
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10.7498/aps.53.883
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关键词
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类富勒烯
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CNx薄膜
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场致电子发射
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微波等离子体增强化学气相沉积
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地址
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1.
郑州大学工程力学系, 郑州, 450002
2.
郑州大学物理工程学院, 郑州, 450052
3.
中国科学院安徽光学精密机械研究所, 合肥, 230031
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语种
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中文 |
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文献类型
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研究性论文 |
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ISSN
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1000-3290 |
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学科
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物理学 |
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基金
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国家863计划
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国家自然科学基金
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文献收藏号
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CSCD:1613798
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参考文献 共
15
共1页
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