帮助 关于我们

共有 1 篇文献引用了这篇文献
朱洪亮, 科学通报, 1989, 34(22), 1681 被引 1 次 

检索结果分布(1)
来源 年代 作者 学科
1. 激光与红外（1） 1. 2010（1） 1. 温涛 中国电子科技集团公司第11所（1） 1. 电子技术、通信技术（1）
2. 赵建忠 中国电子科技集团公司第11所（1）
3. 张影 中国电子科技集团公司第11所（1）

    题名 作者 来源 被引频次
1 反应离子刻蚀InSb芯片引入的损伤研究
详细信息  		温涛; 张影; 肖钰
显示更多作者 		激光与红外, 2010, 40(6), 622-624 1
版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护：中国科学院文献情报中心
地址：北京中关村北四环西路33号 邮政编码：100190 联系电话：(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn 京ICP备05002861号-4 | 京公网安备11010802043238号