帮助
关于我们
简体中文
English
共有
1
篇文献引用了这篇文献
李培,
物理学报, 2015, 64(11), 118502-01-118502-07 被引 1 次
检索结果分布(1)
来源
年代
作者
学科
1. 物理学报(1)
1. 2016(1)
1. 孟骁然 上海工程技术大学(1)
1. 一般工业技术(1)
2. 侯春雷 上海工程技术大学(1)
3. 张波 中国科学院上海微系统与信息技术研究所(1)
题名
作者
来源
被引频次
1
700℃退火下铝调制镍硅锗薄膜的外延生长机理
详细信息
平云霞;
王曼乐;
孟骁然
侯春雷;
俞文杰;
薛忠营;
魏星;
张苗;
狄增峰;
张波
显示更多作者
物理学报, 2016, 65(3), 36801-1-36801-7
0
版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护:
中国科学院文献情报中心
地址:北京中关村北四环西路33号 邮政编码:100190 联系电话:(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn
京ICP备05002861号-4
| 京公网安备11010802043238号