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共有 2 篇文献引用了这篇文献
王启元, 半导体学报, 1999, 20(6), 458 被引 2 次 

检索结果分布(2)
来源 年代 作者 学科
1. 半导体学报（1） 1. 2004（1） 1. 杨德仁 浙江大学（2） 1. 电子技术、通信技术（2）
2. 材料导报（1） 2. 2003（1） 2. 阙端麟 浙江大学（2）
3. 马向阳 浙江大学（2）

    题名 作者 来源 被引频次
1 重掺杂直拉硅单晶氧沉淀及其诱生二次缺陷
详细信息  		黄笑容; 杨德仁; 沈益军
显示更多作者 		半导体学报, 2004, 25(6), 662-667 2
2 超大规模集成电路硅片的内吸杂
详细信息  		汤艳; 杨德仁; 马向阳
显示更多作者 		材料导报, 2003, 17(5), 73-78,81 1
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