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王贺权,
真空科学与技术学报, 2008, 28(1), 55-58 被引 3 次
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来源
年代
作者
学科
1. 真空科学与技术学报(3)
1. 2010(2)
1. 李瑛 中国科学院金属研究所(1)
1. 物理学(1)
2. 2009(1)
2. 朱圣龙 中国科学院金属研究所(1)
2. 行业污染、废物处理与综合利用(1)
3. 张文杰 沈阳理工大学(1)
3. 一般工业技术(1)
题名
作者
来源
被引频次
1
混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜
详细信息
张文杰;
李汝愿;
李瑛
朱圣龙;
王福会
显示更多作者
真空科学与技术学报, 2010, 30(3), 288-292
0
2
O_2/Ar比例对直流脉冲磁控溅射制备TiO_2薄膜光催化性能的影响
详细信息
张粲;
丁万昱;
王华林
柴卫平
显示更多作者
真空科学与技术学报, 2010, 30(2), 106-110
1
3
等离子体发射监控系统参与的中频孪生反应磁控溅射沉积TiO_2薄膜的实验研究
详细信息
赵嘉学;
王军生
真空科学与技术学报, 2009, 29(6), 690-694
0
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