帮助 关于我们

共有 篇文献引用了这篇文献
黄大定, 半导体学报, 1993, 14(8), 509 被引 1 次 

检索结果分布(1)
来源 年代 作者 学科
1. 半导体学报(1) 1. 1995(1) 1. 姚振钰 中国科学院半导体研究所(1) 1. 物理学(1)
2. 任治璋 中国科学院半导体研究所(1)
3. 任庆余 中国科学院半导体研究所(1)

    题名 作者 来源 被引频次
1 用低能离子束淀积技术在硅(111)衬底上生长氧化铈外延薄膜
详细信息 
黄大定; 秦复光; 姚振钰
显示更多作者
半导体学报, 1995, 16(2), 153 1
版权所有 ©2008 中国科学院文献情报中心 制作维护:中国科学院文献情报中心
地址:北京中关村北四环西路33号 邮政编码:100190 联系电话:(010)82627496 E-mail:cscd@mail.las.ac.cn 京ICP备05002861号-4 | 京公网安备11010802043238号